APQ JENA
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APQ 130/1000、APQ 150/1200、APQ 180/1440 和 APQ 200/1600 萤石四片式 Polychromat
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APQ 150/1200 萤石四片式 Polychromat
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APQ 设计

APQ 设计

我们的目标是以尽可能高的质量,为客户提供具有卓越性能和鲜明特点的产品。

为在光学系统与仪器研发中树立新的标准,我们与在光学和机械设计领域拥有多年经验的国际知名专家合作。

我们的主要设计原则是:

形式追随功能(包豪斯)
光学设计
3D CAD
有限元分析(FEA)
使用高品质材料


  • 光学设计
  • 温度补偿

我们认为,新一代 CMOS 传感器需要创新的光学设计,以满足日益提高的成像质量要求。

新开发的萤石四片式 Polychromat 同样为目视观测者带来优势:与大多数复消色差物镜不同,其 Strehl 比在可见光谱两端不会下降到接近或低于衍射极限。

下面将详细介绍我们新一代天文物镜的光学设计。该设计由技术光学工程师 Dipl.-Ing. (FH) Uwe Laux 开发(详见相关说明)。 Laux, Uwe:《Astrooptik. Optik-Systeme für die Astronomie》,第 3 次修订增补版,2017 年,第 146–155 页 以及相关专利申请)。


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为确保热稳定、无间隙和高定心精度,我们为萤石四片式 Polychromat 开发了热补偿光学镜筒(补偿镜筒)。

新的补偿镜筒设计适用于 -20 °C 至 40 °C 的工作温度范围(工作温差 ≥ 60 K),以及 -40 °C 至 60 °C 的储存和运输温度范围。

下面概述镜筒组件的设计。该设计由 Dipl.-Ing. (FH) Frank Dionies 开发,并得到 Prof. Dr.-Ing. Manfred Steinbach 的技术咨询支持(另见相关专利申请)。


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